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      AG防眩層膜厚儀

      更新時(shí)間:2024-08-16

      簡(jiǎn)要描述:

      AG防眩層膜厚儀: 按照客戶(hù)需求搭建的防眩薄膜厚度特性表征工具。
      AG防眩層膜厚儀 是一個(gè)模塊化和可擴展平臺的光學(xué)測量設備,可用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的防眩膜層。
      AG防眩層膜厚儀 是為客戶(hù)量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。
      比如:
      吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

      訪(fǎng)問(wèn)次數:3567廠(chǎng)商性質(zhì):代理商

      1. 產(chǎn)品概述

      AG防眩層膜厚儀: 按照客戶(hù)需求搭建的防眩薄膜厚度特性表征工具。

      AG防眩層膜厚儀 是一個(gè)模塊化和可擴展平臺的光學(xué)測量設備,可用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的防眩膜層。

      AG防眩層膜厚儀 是為客戶(hù)量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。

      比如:

      吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等

      2. AG防眩層膜厚儀應用

      大學(xué)&研究實(shí)驗室、半導體行業(yè)、高分子聚合物&阻抗表征、電介質(zhì)特性表征、

      生物醫學(xué)、硬涂層,陽(yáng)極氧化,金屬零件加工、、光學(xué)鍍膜、非金屬薄膜等等…

      AG防眩層膜厚儀可由用戶(hù)按需選擇裝配模塊,核心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統)和控制單元,電子通訊模塊。

      通過(guò)不同模塊組合,蕞終的配置可以滿(mǎn)足任何終端用戶(hù)的需求。

      3. 膜厚儀規格(Specificatins


      Model

      UV/Vis

      UV/NIR -EXT

      UV/NIR-HR

      D UV/NIR

      VIS/NIR

      D Vis/NIR

      NIR

      光譜范圍  (nm)

      200 – 850

      200 –1020

      200-1100

      200 – 1700

      370 –1020

      370 – 1700

      900 – 1700

      像素

      3648

      3648

      3648

      3648 & 512

      3648

      3648 & 512

      512

      厚度范圍

      1nm – 80um

      3nm – 80um

      1nm – 120um

      1nm – 250um

      12nm – 100um

      12nm – 250um

      50nm – 250um

      測量n*k 蕞小范圍

      50nm

      50nm

      50nm

      50nm

      100nm

      100nm

      500nm

      準確度*,**

      1nm or 0.2%

      1nm or 0.2%

      1nm or 0.2%

      1nm or 0.2%

      1nm or 0.2%

      2nm or 0.2%

      3nm or 0.4%

      精度*,**

      0.02nm

      0.02nm

      0.02nm

      0.02nm

      0.02nm

      0.02nm

      0.1nm

      穩定性*,**

      0.05nm

      0.05nm

      0.05nm

      0.05nm

      0.05nm

      0.05nm

      0.15nm

      光源

      氘燈 & 鎢鹵素燈(內置)

      鎢鹵素燈(內置)

      光斑 (直徑)



      350um (更小光斑可根據要求選配)



      材料數據庫




      > 600 種不同材料




      4. 膜厚儀配件


      電腦

      13~19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

      聚焦模塊

      光學(xué)聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

      薄膜/比色皿容器

      在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量(選配)

      接觸式探頭

      用于涂層厚度測量和光學(xué)測量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品(選配)

      顯微鏡

      用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量(選配)

      Scanner  (motorized)

      帶有圓晶卡盤(pán)的PolarR-Θ)或 CartesianX-Y)自動(dòng)化樣品臺可選,PolarR-Θ)樣品臺支持反射率測量,CartesianX-Y)樣品臺支持反射率和透射率測量(選配)

      積分球

      用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射(選配)

      手動(dòng) X-Y 樣品臺

      測量面積為 100mmx100mm 200mmx200mm x - y 手動(dòng)平臺(選配)

      加熱模塊

      嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過(guò)FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).(選配)

      液體模塊

      聚四氟乙烯容器,用于通過(guò)石英光學(xué)窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具,用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中(選配)

      流通池

      液體中吸光率、微量熒光測量(選配)

      5. 膜厚儀工作原理

      白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經(jīng)多層或單層薄膜反射后,經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學(xué)常數。

      * 規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。



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